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有關design rule,半導體製程

想請問一下在半導體中的design rule ,有所謂的digitized area 與scribe-line而其中又分為dark 與clear 請問一下這代表什麼意思呀??

2 Answers

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  • 1 decade ago
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    一般學生晶片或是工程師畫的layout..都是main die的部份...

    但layout變成光罩...不是只在工作站畫一畫而已...更不是直接拿去曝wafer...

    die和die之間要有間隔...這樣才能有空間把die從wafer上切下來..且不傷到die...

    這個就是scribe-line的用途..也叫切割道..

    另外切割道也會擺一些TEG(Test-Element-Group)...以往的製程...

    會拿一些wafer上...客戶的die..拿來做電性測試...

    但現在wafer和土地一樣寸土寸金...已經不容許這種情形...

    所以代工廠會把一些重要的circuit挪到切割道中...並直接測試..

    測完就直接切掉...而digitzed area...我想就是光罩中擺main die的地方吧...

    光罩是由main die...frame...teg..test key..alignment mark..etc...等組成的...

    你知道MPD這東西嗎???MPD上面會規範layer number和PR的正負...

    以及mask tone..也就是你問題中的dark..clear...layer number會決定你在tool中..

    好比virtuoso或laker中使用的technology file...如果你畫過layout...就知我在講啥..

    當代工廠把所有的gds都送到光罩公司...光罩公司會依照代工廠的要求..

    把所有gds合併...並轉成mebes data...這時...dark/clear就可以看來出了..

    畫layout時...比如1st metal時...你會拉一根根的pattern...連接任意兩端...

    跑DRC時..就是檢查這些pattern的width和spacing....

    dark = positive tone = 正tone...就像你在一片沙地上挖出一道道的溝...

    工作站畫layout..背景是黑色的...你把1st metal設定成黃色...

    你就會看到一根根的黃色pattern構成的layout...對吧??

    但當光罩公司轉成正tone後...

    工作站上看到的黄色pattern..在光罩公司會變成黑色的背景...

    而原本layout中黑色的背景...在光罩公司會變成黃色的pattern...

    有顏色的地方..將來曝光時..

    光是不會穿過光罩...會被擋下來...Cr膜會留在光罩上...

    所以若是負tone呢???在光罩公司看到的pattern就會跟你的layout完全一樣...

    正負tone是要搭配光阻來用的...若用正tone來曝導線層..就要配負光阻(N-PR)...

    負tone來曝導線層..就要配正光阻(P-PR)...

    通常晶圓廠收到客戶的layout也會做一些必要的動作...

    加dummy...跑OPC...學生晶片在校內就可做加dummy的動作...

    2006-09-30 21:47:59 補充:

    更正1.一般光罩光司把gds轉成mebes時是用正光阻的型態來轉..所以在光罩公司看轉完的data時..有顏色的地方將來在光罩上才是會透光..我搞混了..sorry..

    更正2.導線(metal)是正tone配正光阻..負tone配負光阻..sorry again

  • 6 years ago

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