dida asked in 科學化學 · 2 decades ago

半導體中 高溫氧化爐管有用到些啥化學物質

如提 半導體中 高溫氧化爐館中有用到些化學物質 有些啥危害??

2 Answers

Rating
  • 會漲
    Lv 6
    2 decades ago
    Favorite Answer

    製造積體電路的高溫製程,可提供1100℃以下高溫,一般以爐管加熱最常用。爐管為石英(Quartz)製成,可耐高溫及壓力。高溫爐管呈水平或垂直設立,用於氧化(oxidation)、擴散(diffusion)、回火(annealing)、退火(sintering)及低壓化學氣相沉積系統等製程。使用化學物質為氣體-N2, O2, H2, N2O等N2有窒息性之危害H2有火災爆炸之危害N2O有麻醉作用及缺氧作用4.0 Definitions and Process Terminology 4.1 濕式氧化(Wet Oxidation):藉水蒸氣與Silicon反應,形成Oxide film,有較高的氧化速率,但氧化層特性較差,通常用於製作Field oxide。 4.2 RCA clean:將Native Oxide去除,以提高氧化品質。 4.3 Steam化學反應式:2H2+O2àH2O 4.4 Oxide化學反應式:Si+2H2OàSiO2+2H2 5.0 Safety 5.1 電力衝擊的危險:Wet oxidation furnace利用高瓦數電力產生熱能,非必要狀況,不得碰觸爐管側板及電源開關處。 5.2 使用氣體的危險:H2為易爆性氣體,使用前需先確認管路有無洩漏,避免發生自燃現象。 5.3 燙傷的危險:在製程時,爐管、石英晶舟、石英門及wafer都很熱,故不得用手直接碰觸,需帶上石綿手套,才能開石英門做wafer之取放。 6.0 Available Gases 6.1 Nitrogen(N2):將Furnace做purge及vent使用 6.2 Oxygen(O2):與H2反應形成水蒸氣 6.3 Hydrogen(H2):與O2反應形成水蒸氣,進行氧化反應 6.4 Nitrous oxide(N20):俗稱笑氣,將剛形成SiO2進行氮化,以減少SiO2層內未完全鍵結數量,提昇SiO2電性 6.5 Compressed Dry Air(CDA):提供氣動閥使用

    Source(s): 長庚大學電子工程系
  • 6 years ago

    ●九州 娛樂 網站 http://ts777.cc/

    ●●●運彩遊戲、真人遊戲、電子遊戲、對戰遊戲、對戰遊戲●●●

    ●新舊會員儲值就送500點

    ● 真人百家樂彩金等你拿

    ●線上影片直播、正妹圖、討論區免費註冊

    歡迎免費體驗交流試玩!

    ●九州 娛樂 網站 http://ts777.cc/

Still have questions? Get your answers by asking now.